Patent vs. Gebrauchsmuster – Gemeinsamkeiten und Unterschiede

Patente und Gebrauchsmuster sind zentrale Instrumente zum Schutz technischer Erfindungen. Dennoch gibt es zwischen beiden Schutzrechten wichtige Unterschiede, die für Unternehmen und Erfinder von großer Bedeutung sind.

Gemeinsamkeiten zwischen Patent und Gebrauchsmuster:

• Schutzgegenstand: Beide Schutzrechte dienen dem Schutz technischer Erfindungen, die neu, gewerblich anwendbar und auf einem erfinderischen Schritt bzw. einer erfinderischen Tätigkeit beruhen.
• Rechte des Inhabers: Sowohl Patent- als auch Gebrauchsmusterinhaber erhalten das ausschließliche Recht, die Benutzung, Herstellung, das Anbieten und den Verkauf eines geschützten Produkts Dritten, beispielsweise Wettbewerbern, zu verbieten.
• Anmeldeunterlagen: Die Anmeldung erfordert in beiden Fällen ähnliche Unterlagen – insbesondere eine Beschreibung, Ansprüche und gegebenenfalls Zeichnungen.
• Territorialitätsprinzip: Beide Schutzrechte gelten nur in dem Land, in dem sie erteilt wurden. Es gibt keine internationale oder europäische Gebrauchsmusteranmeldung, während dies beim Patent möglich ist.
• Schutzbereich: Der Schutzumfang wird durch die Ansprüche definiert. Beim Patent heißen die Ansprüche Patentansprüche, beim Gebrauchsmuster Schutzansprüche.

Unterschiede zwischen Patent und Gebrauchsmuster:

• Prüfungsverfahren: Beim Patent erfolgt eine umfassende Prüfung auf Neuheit, erfinderische Tätigkeit und gewerbliche Anwendbarkeit durch das Patentamt. Das Gebrauchsmuster wird hingegen ohne inhaltliche Prüfung, also nach einer lediglich formalen Prüfung, eingetragen. Die Neuheit und der erfinderische Schritt werden erst im Streitfall geprüft.
• Schutzdauer: Ein Patent kann maximal 20 Jahre ab Anmeldetag geschützt werden, das Gebrauchsmuster dagegen nur bis zu 10 Jahre.
• Schutzfähige Gegenstände: Verfahren (z. B. Herstellungsverfahren) sind nur durch Patente, nicht aber durch Gebrauchsmuster schützbar.
• Schnelligkeit: Gebrauchsmusterschutz tritt in der Regel schneller ein (oft nach wenigen Monaten), während das Prüfungsverfahren beim Patent deutlich länger dauern kann (oft  2 Jahre oder mehr).
• Neuheitsschonfrist: Beim Gebrauchsmuster gibt es eine Neuheitsschonfrist (z. B. 6 Monate in Deutschland und Österreich), beim Patent hingegen nicht. Neuheitsschonfrist bedeutet, dass eine eigene Veröffentlichung der Erfindung, beispielsweise auf einer Messe oder in einer wissenschaftlichen Publikation, innerhalb dieser Frist nicht neuheitsschädlich ist: Eine eigene Veröffentlichung wird zur Bewertung von Neuheit nicht herangezogen.
• Kosten: Die Anmeldung und Aufrechterhaltung eines Gebrauchsmusters ist in der Regel günstiger als beim Patent.
• Risiko: Da das Gebrauchsmuster ohne inhaltliche Prüfung eingetragen wird, besteht das Risiko, dass es im Streitfall für nichtig erklärt wird, wenn die Voraussetzungen doch nicht erfüllt sind.

Zusammenfassung:

Patente und Gebrauchsmuster bieten jeweils spezifische Vorteile. Während das Patent einen umfassenden und langfristigen Schutz nach eingehender Prüfung bietet, ermöglicht das Gebrauchsmuster einen schnellen, kostengünstigen und flexiblen Einstieg in den Schutz technischer Erfindungen.

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